光氧催化处理设备催化氧化技术

    光氧催化处理设备催化氧化技术是什么？下面就让我们来看一下吧！

    光氧催化处理设备催化反应技术性的原理是VOCs在250～450℃温度的自然环境和有关催化剂的条件下，产生氧化还原反应，转化成二氧化碳和水，进而做到解决VOCs的目地。

    催化氧化技术性就是指在阳光照射在半导体材料的条件下，当光子能量高过催化剂的消化吸收阀值时，半导体材料的价带电子器件可以从价带越迁到导带，造成光生电子器件和空化，进而空气中的纳米技术细颗粒物表层产生超氧空气负离子，和催化剂表层产生的羟基自由基将挥发物有机化合物转换成二氧化碳和水无毒性没害化学物质。

    化工厂中VOCs的造成关键有二种方式：

   一是生产工艺流程中造成的工业废气，排污汽体中的空气污染物与化工厂生产工艺流程全过程和工艺流程工作状况条件相关，类型多且特性差别很大，这类排污有全局性，排放量能够 估计。

  二是根据别的阶段蒸发造成，造成的VOCs因为具备较强的扩散性和反映特异性，可以在一定条件下历经各种各样繁杂的化学变化产生转换，此类方式造成的VOCs的排放量没法精确估算，造成源的剖析也存有艰难。

    以上是光氧催化处理设备的相关专业知识内容介绍，如果您也对我们的产品感兴趣，那就快来电咨询吧！